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    等倍projection曝光


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    MEMS,LED(PSS)制造流程

    ·解析度2μm,高NA的等倍投影曝光機

    ·對應壓膜Resist和高段差Patterning(圖像形成)

    ·也可作為MPA的互換機來使用(可使用MPA Mask)

    ·可選配搭載Reticle Checker,自動Mask Changer等

    ·對應方式可以對應單面·兩面,半自動,全自動


    清和光學自主進行投影鏡頭的獨創設計,可以對應客戶定制化。








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