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  • 清 和 光 學

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    FMM曝光機



    精細金屬掩膜板直立式卷對卷曝光機

    直立式爆光的優勢(水平方式難以達成)

    ①真空密著程度的提升(Mask的平行調整功能)

    ②Mask彎曲矯正機構(Mask傾斜度±1度內)

    ③曝光部的Film張力控制

    ④直立式曝光機獨有的 垂直掃流式 氣流瀑布結構


    特殊的優勢技術

    ·精密真空吸著控制(抽真空控制)

    ·使用獨家開發Mask,能提高密著程度,防止異物混入,

     Mask使用壽命更長,達成降低成本及提升產品良率效果

    ·采用自家開發的特殊光學系統,達到±1μ的高精度對位

    ·Mask溫度調整功能,控制在±1度以內

    ※選配功能,可以達到±0.5度以內




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